Structural Characterization of the Nickel Thin Film Deposited by GLAD Technique
Апстракт
In this work, a columnar structure of nickel thin film has been obtained using an advanced deposition technique known as Glancing Angle Deposition. Nickel thin film was deposited on glass sample at the constant emission current of 100 mA. Glass sample was positioned 15 degrees with respect to the nickel vapor flux. The obtained nickel thin film was characterized by Force Modulation Atomic Force Microscopy and by Scanning Electron Microscopy. Analysis indicated that the formation of the columnar structure occurred at the film thickness of 1 mu m, which was achieved for the deposition time of 3 hours.
У овом раду, стубичаста структура танког слоја никла је добијена коришћењем напредне технике депоновања при малим угловима. Танки слој никла је депонован на стаклу, при константној емисионој струји која је износила 100 mA. Подлога од стакла је постављена, у односу на флукс паре никла, под углом од 15 степени. Добијени танки слој никла је карактерисан помоћу микроскопа у пољу атомских сила и сканирајућег електронског микроскопа. Анализа указује да се формирање стубичасте структуре јавља при дебљини слоја никла од 1 μm, а та дебљина је добијена након 3 сата депоновања.
Кључне речи:
Glancing Angle Deposition / Force Modulation Atomic Force Microscopy / nickel / cross section / депоновање при малим угловима / микроскоп у пољу атомских сила / попречни пресек / никлИзвор:
Science of Sintering, 2013, 45, 1, 61-67Финансирање / пројекти:
- Функционални, функционализовани и усавршени нано материјали (RS-MESTD-Integrated and Interdisciplinary Research (IIR or III)-45005)
DOI: 10.2298/SOS1301061P
ISSN: 0350-820X
WoS: 000318150200006
Scopus: 2-s2.0-84877705136
Колекције
Институција/група
VinčaTY - JOUR AU - Potočnik, Jelena AU - Nenadović, Miloš AU - Jokić, Bojan M. AU - Štrbac, Svetlana AU - Rakočević, Zlatko Lj. PY - 2013 UR - https://vinar.vin.bg.ac.rs/handle/123456789/5470 AB - In this work, a columnar structure of nickel thin film has been obtained using an advanced deposition technique known as Glancing Angle Deposition. Nickel thin film was deposited on glass sample at the constant emission current of 100 mA. Glass sample was positioned 15 degrees with respect to the nickel vapor flux. The obtained nickel thin film was characterized by Force Modulation Atomic Force Microscopy and by Scanning Electron Microscopy. Analysis indicated that the formation of the columnar structure occurred at the film thickness of 1 mu m, which was achieved for the deposition time of 3 hours. AB - У овом раду, стубичаста структура танког слоја никла је добијена коришћењем напредне технике депоновања при малим угловима. Танки слој никла је депонован на стаклу, при константној емисионој струји која је износила 100 mA. Подлога од стакла је постављена, у односу на флукс паре никла, под углом од 15 степени. Добијени танки слој никла је карактерисан помоћу микроскопа у пољу атомских сила и сканирајућег електронског микроскопа. Анализа указује да се формирање стубичасте структуре јавља при дебљини слоја никла од 1 μm, а та дебљина је добијена након 3 сата депоновања. T2 - Science of Sintering T1 - Structural Characterization of the Nickel Thin Film Deposited by GLAD Technique VL - 45 IS - 1 SP - 61 EP - 67 DO - 10.2298/SOS1301061P ER -
@article{ author = "Potočnik, Jelena and Nenadović, Miloš and Jokić, Bojan M. and Štrbac, Svetlana and Rakočević, Zlatko Lj.", year = "2013", abstract = "In this work, a columnar structure of nickel thin film has been obtained using an advanced deposition technique known as Glancing Angle Deposition. Nickel thin film was deposited on glass sample at the constant emission current of 100 mA. Glass sample was positioned 15 degrees with respect to the nickel vapor flux. The obtained nickel thin film was characterized by Force Modulation Atomic Force Microscopy and by Scanning Electron Microscopy. Analysis indicated that the formation of the columnar structure occurred at the film thickness of 1 mu m, which was achieved for the deposition time of 3 hours., У овом раду, стубичаста структура танког слоја никла је добијена коришћењем напредне технике депоновања при малим угловима. Танки слој никла је депонован на стаклу, при константној емисионој струји која је износила 100 mA. Подлога од стакла је постављена, у односу на флукс паре никла, под углом од 15 степени. Добијени танки слој никла је карактерисан помоћу микроскопа у пољу атомских сила и сканирајућег електронског микроскопа. Анализа указује да се формирање стубичасте структуре јавља при дебљини слоја никла од 1 μm, а та дебљина је добијена након 3 сата депоновања.", journal = "Science of Sintering", title = "Structural Characterization of the Nickel Thin Film Deposited by GLAD Technique", volume = "45", number = "1", pages = "61-67", doi = "10.2298/SOS1301061P" }
Potočnik, J., Nenadović, M., Jokić, B. M., Štrbac, S.,& Rakočević, Z. Lj.. (2013). Structural Characterization of the Nickel Thin Film Deposited by GLAD Technique. in Science of Sintering, 45(1), 61-67. https://doi.org/10.2298/SOS1301061P
Potočnik J, Nenadović M, Jokić BM, Štrbac S, Rakočević ZL. Structural Characterization of the Nickel Thin Film Deposited by GLAD Technique. in Science of Sintering. 2013;45(1):61-67. doi:10.2298/SOS1301061P .
Potočnik, Jelena, Nenadović, Miloš, Jokić, Bojan M., Štrbac, Svetlana, Rakočević, Zlatko Lj., "Structural Characterization of the Nickel Thin Film Deposited by GLAD Technique" in Science of Sintering, 45, no. 1 (2013):61-67, https://doi.org/10.2298/SOS1301061P . .